Thiết bị phân tích phân cực ellip UVISEL Plus

Hãng sản xuất: Horiba - Nhật Bản

Giới thiệu chung

Sản phẩm: UVISEL Plus: 190-920 nm | Tùy chọn NIR: 2100 nm Đo chiều dày màng mỏng và các hằng số quang học. Thiết bị phân tích phổ phân cực ellip dành cho nghiên cứu và phát triển quá trình.

Ưu điểm của thiết bị

• Độ chính xác và độ nhạy cao
• Thiết kế hiện đại
• Dải phổ lớn: 190-2100 nm
• Gói phần mềm hoàn toàn tích hợp để đo, dựng hình và vận hành tự động

Dữ liệu thu được

• Chiều dày màng mỏng từ 1Å tới 50 µm
• Độ nhám bề mặt và giao diện
• Các hằng số quang học (n,k) của các màng đẳng hướng, dị hướng và phân cấp
• Các dữ liệu quang học dẫn xuất như: hằng số hấp thụ α, vùng cấm quang họcEg
• Các tính chất vật liệu: thành phần hợp kim, độ xốp, độ kết tinh, hình thái học...
• Nền Mueller
• Sự phân cực

Thông số kĩ thuật

Thiết bị phân tích phổ phân cực ellip UVISEL Plus có sẵn 2 cấu hình

Thông số kỹ thuật

• Dải phổ: từ 190 tới 920 nm │Tùy chọn mở rộng NIR tới 2100 nm
• Phát hiện: Máy đơn sắc độ phân giải cao kết hợp với các detector độ nhạy lớn

Cấu hình thủ công

• Kích thước điểm: 0.05 – 0.1 – 1 mm (pinhole)
• Bệ mẫu: 150 mm, chiều cao (20mm) và độ nghiêng điều chỉnh thủ công
• Máy đo góc: Góc điều chỉnh thủ công từ 55° tới 90° với các bước 5°

Cấu hình tự động

• Kích thước điểm điều chỉnh thủ công hoặc tự động: 0.05 - 0.1 - 1 mm hoặc 0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm (pinhole)
• Bệ mẫu tự động: bệ mẫu XY kích thước 200x200mm, 300x300 mm XY, điều chỉnh thủ công chiều cao (4mm) và độ nghiêng , bệ mẫu XYZ, bệ mẫu theta
• Máy đo góc: Điều chỉnh góc tự động từ 40° tới 90° bằng các bước 0.01°

Máy đo góc tích hợp

• Góc tới điều chỉnh thủ công: 35° tới 90° bằng bước 5°
• Giá giữ mẫu: điều khiển chiều cao trục Z thủ công 150mm, 20mm
• Hệ thống chuẩn trực tự động để căn chỉnh mẫu chọn thêm
• Kích thước: R: 25cm; C: 35cm; S: 21 cm

Cấu hình In-situ

• Tiêu chuẩn cơ khí: Mép bích CF35 hoặc KF40
• Dễ dàng chuyển đổi giữa cấu hình in-situ và ex-situ

Tùy chọn

• Phụ kiện: cell điều khiển nhiệt độ, cell chứa mẫu lỏng, cell điện hóa, module  liquid cell, electrochemical cell, module chiết suất để đo hệ số phản xạ tại góc tới 0° incidence...
• Quan sát: CCD camera

Hiệu suất

• Độ chính xác: Ψ= 45°±0.01° và Δ=0°±0.01° đo được trong cấu hình truyền thẳng trong không khí1.5 – 5.3 eV
• Độ lặp lại: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0.1 % – n(632.8nm) ± 0.0001